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  • 스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법

    관리번호 2020000293 발명자 정민철, 손석환, 김진현
    소속학과 기술분야(6T)
    구분 공동 권리자
    참여기업 특허 사무소
    특허출원번호 10-2015-0127425 특허출원일자
    특허등록번호 10-1777218 특허등록일자
    기술개발단계 기술개발완료 협력희망내용 기술이전, 공동연구
    기술개요 본 발명은 열 안성성 및 변색 안정성이 우수한 디-스티레네이티드 페놀 유도체를 선택적으로 제조할 수 있을 뿐 아니라 잔류 반응물질을 최소화하여 반응 수율을 향상시킬 수 있는 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 선택적인 제조방법에 관한
    것이다.
    기술특성 하기 화학식 2로 표시되는 페놀 유도체와 할로겐 화합물을 반응하여 하기 화학식 3으로 표시되는 디-할로치환 페놀 유도체를 제조하는 1단계; 및팔라듐 촉매 하에서 하기 화학식 3으로 표시되는 디-할로치환 페놀 유도체와 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 반응하여 하기 화학식 1로 표시되는 디-스티레네이티드 페놀 유도체를 제조하는 2단계;를 포함하는 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법.
    기대효과 및 사업성 본 발명에 따른 스티레네이티드 페놀 유도체의 제조방법은 팔라듐 촉매 하에서 높은 반응성을 나타냄으로써, 미반응된 잔류물질의 양을 최소화할 수 있으며,
    이의 방법으로 제조된 생성물 디-스티레네이티드 페놀 유도체의 선택성을 획기적으로 높일 수 있다.
    또한, 본 발명에 따른 제조방법은 단순한 공정으로 마일드한 조건에서 수행이 가능하여, 산업이용가능성을 높여 보다 낮은 비용으로 대량생산이 가능하다.
    응용분야 전자재료용 계면활성제를 합성하기 위한 전구체
    과제 고유번호 세부 과제번호
    부처명 연구관리 전문기관
    사업명
    과제명
    연구기간 주관기관
    기여율(%) 연구비(백만원)
    시제품 제작 사진 및 데이터(표)