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대학보유특허 상세정보

  • 투명전도막 형성 방법

    관리번호 2020000424 발명자 곽준섭, 홍찬화, 위성민
    소속학과 기술분야(6T)
    구분 공동 권리자
    참여기업 특허 사무소
    특허출원번호 10-2012-0077346 특허출원일자
    특허등록번호 10-1351475 특허등록일자
    기술개발단계 기술개발완료 협력희망내용 기술이전, 공동연구
    기술개요 본 발명은 RF-DC 스퍼터와 전자빔을 이용하여 나노 단위의 터치스크린 패널용 투명전극을 형성하여 빠른 박막 성장 속도와 높은 광 투과율 및 낮은 저항을 갖는 투명전도막을 제조하는 것이다.
    기술특성 본 발명은 기판 상부에 제1투명전도층을 형성하는 제1단계 및 상기 제1투명전도층 상부에 제2투명전도층을 형성하는 제2단계를 포함하며, 상기 제1단계 및 제2단계 중 선택되는 어느 한 단계는, DC+RF 스퍼터링 증착과 동시에 인시튜로 전자빔을 조사하는 전자빔 도움 증착(electron beam-assisted deposition) 공정이 수행되는 것을 특징으로 한다.
    기대효과 및 사업성 본 발명은 제1투명전도층 및 상기 제2투명전도층의 적층 구조로 이루어진 투명전도막 중에서 선택되는 어느 하나의 투명전도층은 DC 파워와 RF 파워를 동시에 인가하는 DC+RF 스퍼터링 증착과 동시에 인시튜(in-situ)로 전자빔을 조사하는 전자빔 도움 증착 공정으로 형성하고, 선택되지 않은 어느 하나의 투명전도층은 DC 파워와 RF 파워를 동시에 인가하는 DC+RF 스퍼터링 증착 공정으로 형성함으로써, 높은 투과율 및 높은 전도성의 특성을 갖는 투명전도막을 형성할 수 있게 되므로, 이로 인해 20 인치(inch)급 이상의 대면적 터치스크린 패널 디스플레이에 적용할 수 있는 투명전도막을 확보할 수 있는 효과를 가지게 된다.
    응용분야 본 발명은 투명전극을 사용하는 OLED, TFT, LCD, 산화물 반도체, 태양전지 뿐 아니라 터치스크린 패널 분야에서 응용 가능하다.
    과제 고유번호 세부 과제번호
    부처명 연구관리 전문기관
    사업명
    과제명
    연구기간 주관기관
    기여율(%) 연구비(백만원)
    시제품 제작 사진 및 데이터(표)