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대학보유특허 상세정보
| 관리번호 | 2020000479 | 발명자 | 김재관 / 위마라난다 산디파 / 이동민 / 이지면 | ||
| 소속학과 | 기술분야(6T) | ||||
| 구분 | 공동 권리자 | ||||
| 참여기업 | 특허 사무소 | ||||
| 특허출원번호 | 10-2019-0168658 | 특허출원일자 | |||
| 특허등록번호 | 10-2265089 | 특허등록일자 | |||
| 기술개발단계 | 협력희망내용 | 기술이전, 공동연구 | |||
| 기술개요 | 본 기술은 전도성 제어가 가능한 그래핀 합성방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 단일공정을 이용하여 전도성 영역과 비전도성 영역을 동시에 가지는 그래핀을 성장시킬 수 있고, 그래핀의 전도성 제어가 가능한 그래핀 합성방법에 관한 것임. |
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| 기술특성 | 본 기술은, 촉매층으로 전이금속 박막을 준비하는 제1단계; 상기 전이금속 박막을 제1차 표면처리하여, 표면이 나노스케일의 거칠기를 가지도록 하는 제2단계; 상기 전이금속 박막에 표면에 포토(photo) 공정을 수행하되, 포토레지스트로 커버링된 보호영역과 포토레지스트로부터 오픈된 개방영역을 갖도록 선택적으로 패터닝하는 제3단계; 상기 보호영역 및 상기 개방영역으로 패터닝된 상기 전이금속 박막에 대하여 제2차 표면처리를 수행하는 제4단계; 상기 제2차 표면처리가 수행된 상기 전이금속 박막에서 상기 포토레지스트를 제거하고, 화학기상증착(CVD) 공정을 위해 상기 전이금속 박막을 화학기상증착(CVD) 챔버에 삽입하는 5단계; 및 상기 화학기상증착 챔버 내에 원료 가스를 주입하고 특정 온도범위의 공정온도 제어를 통해, 상기 보호영역에 전도성 그래핀 박막을 합성함과 동시에 상기 개방영역에 전도성이 제어된 그래핀 박막을 합성하는 제6단계;를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 함. |
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| 기대효과 및 사업성 | 본 기술에 의할 경우, 전이금속의 표면거칠기 및 표면에너지 제어 등으로 그래핀의 성장 조건을 제어할 수 있으며, 온도 제어 공정을 통하여 표면 제어에 따른 그래핀의 전도 특성을 효과적으로 제어할 수 있는 효과가 있음. 또한, 단일공정으로 전도성 영역과 비전도성 영역을 동시에 갖는 그래핀을 합성할 수 있으며, 표면처리 영역 제어 및 공정온도 조절을 통해 용도에 맞는 다양한 소자 제작 분야에 활용할 수 있는 그래핀을 얻을 수 있는 효과가 있음. |
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| 응용분야 | 전자소자, 투명전극, 유연전자소자 | ||||
| 과제 고유번호 | 세부 과제번호 | ||||
| 부처명 | 연구관리 전문기관 | ||||
| 사업명 | |||||
| 과제명 | |||||
| 연구기간 | 주관기관 | ||||
| 기여율(%) | 연구비(백만원) | ||||
| 시제품 제작 사진 및 데이터(표) | |||||