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대학보유특허 상세정보
| 관리번호 | 2021000527 | 발명자 | 김재관 / 위마라난다 산디파 / 이지면 | ||
| 소속학과 | 기술분야(6T) | ||||
| 구분 | 공동 권리자 | ||||
| 참여기업 | 특허 사무소 | ||||
| 특허출원번호 | 10-2021-0007144 | 특허출원일자 | |||
| 특허등록번호 | 특허등록일자 | ||||
| 기술개발단계 | 협력희망내용 | 기술이전, 공동연구 | |||
| 기술개요 | 본 기술은 입체구조 패터닝 공정을 이용한 그래핀 주름 제조방법에 관한 것으로 서, 보다 상세하게는 가혹한 변형상태에서도 전기적 특성이 유지될 수 있는 안정 적 구동이 가능한 입체구조 패터닝 공정을 이용한 그래핀 주름 제조방법에 관한 것임. |
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| 기술특성 | 본 기술은, 전이금속 박막을 준비하고, 상기 전이금속 박막 표면에 대하여 포토(photo) 공정 을 수행하여, 포토 레지스트로 커버링된 보호영역과 포토 레지스트로부터 오픈된 개방영역으로 구분되는 마스크 패턴을 형성하는 제1단계와; 상기 전이금속 박막에 대하여 식각공정을 수행하여, 상기 개방영역은 식각되고 상기 보호영역은 식각되지 않은 형태의 입체 패턴을 형성하는 제2단계와; 상기 전이금속 박막을 화학기상증착(CVD) 챔버에 삽입하여, 상기 전이금속 박막 의 입체패턴 상에 그래핀을 합성하는 제3단계와; 상기 보호영역과 상기 개방영역 각각에 대응되는 영역들에서 전사된 그래핀의 주름의 정도가 서로 다르도록, 합성된 그래핀을 유연(stretchable 또는 flexible)기판 상에 전사하는 제4단계를 구비하는 것을 특징으로 함. |
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| 기대효과 및 사업성 | 본 기술에 의할 경우, 그래핀 주름을 고도로 제어하여 선택적 영역에는 주름을 형성시키고, 선택적 영역 이외의 부분은 평평하도록 그래핀을 합성할 수 있다는 효과가 있음. 또한, 그래핀의 성장 및 전사과정에서 그래핀의 주름을 고도로 제어하여 플렉서 블 또는 스트레처블 형태의 구동조건이 필요한 웨어러블 전자소자에 적용시에 전 도도 저하 문제가 발생되지 않도록 하여 전도도 특성의 개선이 가능한 장점이 있 으며, 플렉서블 또는 스트레처블 형태의 구동조건이 필요한 웨어러블 전자소자 등 물리적 변형이 가혹한 전자소자에 적용시, 물리적 변형 상태에서도 전기적 특 성을 유지하여 전기적 내구성 및 신뢰성을 유지할 수 있다는 장점이 있음. |
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| 응용분야 | 웨어러블 소자 및 투명전극 제조 분야 | ||||
| 과제 고유번호 | 세부 과제번호 | ||||
| 부처명 | 연구관리 전문기관 | ||||
| 사업명 | |||||
| 과제명 | |||||
| 연구기간 | 주관기관 | ||||
| 기여율(%) | 연구비(백만원) | ||||
| 시제품 제작 사진 및 데이터(표) | |||||